NRE-3500（A）全自動RIE反應離子刻蝕機是基于PC控制的全自動系統(tǒng).系統(tǒng)真空壓力及DC直流偏壓將以圖形格式實時顯示,流量及功率則以數(shù)字形式實時顯示.系統(tǒng)提供密碼保護的四級訪問功能:操作員級、工程師級、工藝人員級,以及維護人員級.允許半自動模式(工程師模式)、寫程序模式(工藝模式), 和全自動執(zhí)行程序模式(操作模式)運行系統(tǒng)。基于全自動的控制，該系統(tǒng)具有高度的可重復性。
NRE-3500（A）全自動RIE反應離子刻蝕機產(chǎn)品特點：
鋁質(zhì)腔體或不銹鋼腔體
不銹鋼立柜
能夠刻蝕硅的化合物(~400? /min)以及金屬
典型的硅刻蝕速率，400 ?/min
高達12"的陽極氧化鋁RF樣品臺
水冷及加熱的RF樣品臺
大的自偏壓
淋浴頭氣流分布
極限真空5x10-7Torr，20分鐘內(nèi)可以達到10-6Torr級別
渦輪分子泵
最多支持5個MFC
無繞曲氣體管路
自動下游壓力控制
雙刻蝕能力：RIE以及PE刻蝕(可選)
終點監(jiān)測
氣動升降頂蓋
自動上下載片
預真空鎖
基于LabView軟件的PC計算機全自動控制
菜單驅(qū)動，4級密碼訪問保護
完全的安全聯(lián)鎖
可選ICP離子源以及低溫冷卻樣品臺，用于深硅刻蝕
NRE-3500（A）全自動RIE反應離子刻蝕機產(chǎn)品型號：
NRE-4000：基于PC計算機全自動控制的獨立式系統(tǒng)，占地面積26“D x 44"W
NRE-3500：基于PC計算機全自動控制的緊湊型獨立式系統(tǒng)，占地面積26“D x 26"W
NRE-3000：基于PC計算機全自動控制的臺式系統(tǒng)，占地面積26“D x 26"W
NRP-4000：RIE/PECVD雙系統(tǒng)
NDR-4000：深RIE刻蝕(深硅刻蝕)系統(tǒng)